真空泵廠家分（fèn）析真（zhēn）空壓力控製係統如（rú）何優化。芯片的刻蝕工藝（yì）通常要在一個受控的真空環境下工（gōng）作，反應腔（qiāng）的功能是在真（zhēn）空環（huán）境中保持工藝參數需要的壓力，去除不需要的（de）水汽、空氣和附加反應物；創（chuàng）建一個能夠使等離子體發生反應的真空環境（jìng）。為了降低刻蝕機（jī）真空壓力控製係統的成本，實現高（gāo）真空獲得設備的清潔化、簡單化和微型化，同（tóng）時為了提高真空係統（tǒng）的抽氣速率和極限真空，係統（tǒng）中的腔、真空泵以（yǐ）及連接管路和閥門（mén）的選配是很重要的。

刻蝕機（jī）為了保證刻（kè）蝕（shí）工藝需要（yào）的穩定工作壓力，大抽速真空係統是必不可少的組成部（bù）分。99色在线观看真空泵廠家詳細地介紹反應腔、真空泵的選擇、真空閥門的選配、真空計和真空（kōng）檢測開關、真空計和真空檢測開關（guān）和連接管路。

真空泵廠家分析真空壓力控製係統如何優化？要從以下五個方麵展（zhǎn）開：

⑴反（fǎn）應腔

反應腔（qiāng）是（shì）真空係統的基本部件，不（bú）同刻（kè）蝕的反應腔形狀和大小不同，但都屬於（yú）受負壓的容器。為了增加芯片產能的需要（yào）反應腔采用的是多（duō）工位設計，這就需（xū）要真空泵的抽（chōu）速滿足其要求。多工位設計要保證多個工位芯片的均勻性是很難的。必須（xū）加大真空（kōng）泵的抽（chōu）氣速率，分子泵是最好的選擇。根據不同工藝的需要，反應腔的工作壓力（lì）一般在10^-3-10^-2Torr之間，既要保證（zhèng）反應腔的真空度，又要保證工藝氣體的壓力，確保反應腔工作在真空穩定的狀態下，這一直是真空泵廠家研究的課題。

⑵真空泵的選（xuǎn）擇

真空泵是獲得真空的關鍵（jiàn）設備，至今還沒有一種泵能從（cóng）大氣壓（yā）一直工作到接近（jìn）超真空，必須兩種或以上的泵聯合使用（yòng），螺杆式幹泵屬於容積泵類型，其工作循環可分（fèn）為吸氣、壓縮和排氣三個過（guò）程，其優點是（shì）結構穩（wěn）定，重心低，轉動平穩，振動小，噪音小。分子泵有牽引分子泵、渦輪分子泵和複合式分子泵等，分子泵的選型根據刻蝕反（fǎn）應腔壓力和容積的不同而不同。

⑶真空閥門的選配

選擇鍾擺閥是（shì）為了配合分子泵大（dà）口徑尺寸（cùn）的需要，鍾擺閥的開度大反應腔的（de）壓力就減小，但是當開度大到一定程度時（shí），由於泵的抽速有限，反應腔（qiāng）的真空就被限製住了，真空壓力就不能繼（jì）續減小。所以要（yào）選擇鍾（zhōng）擺閥適合的工作開度，以滿足刻蝕工藝（yì）工作壓（yā）力的要求。

⑷真空計和真空檢測開關

真空計能時刻監控反應（yīng）腔（qiāng）和管路的壓力，在反應腔和管路上設置真空計（jì），當真空度（dù）達到一定值時，開（kāi）啟（qǐ）或關閉真空閥（fá）門。真空計的分類主要有兩種方法：①按真計讀數（shù）的刻度方法進行分類，即絕對（duì）真空（kōng）計和相對真空計；②按真空計（jì）測量原理進行分類，即直接測量真空計和（hé）間接測（cè）量真空計。薄膜（mó）式電容真空計是間接測量的（de）絕對真空計，由於（yú）具（jù）有（yǒu）性能穩定，重複性好，而且（qiě）其響應速度快，抗過載能力強，結構（gòu）牢固（gù），使用方便的特點，因此（cǐ）被業界廣（guǎng）泛應用。為了安全考慮，真空管路必須設置大氣真空開關，當壓（yā）力值達到一個大氣壓時真空開關自動打開排氣（qì），保（bǎo）護反應腔和管路係統的真空儀器。

⑸連接管

真空係統最重要的性能參數是其所能（néng）獲得的極限真空度和對反應腔的有效抽速（sù），真空係統的極限真空度是指在沒有外加負荷的情況（kuàng）下，經過（guò）足夠長時（shí）間的（de）抽氣後（hòu），係統所能達的最低壓力。

進口真空泵廠家表示任何真空係統絕對不漏的現象是不可能的，所以真空管路上需要（yào）設置檢漏口，方便進行真空檢漏。